6.11 矩形阵列

    6-11.1 几何定义：

  并不完全是“矩形”排列的结果，可按指定的参数，以矩形、或沿着指定路线阵列，复制选定的一个或几个特征。还可以阵列曲面和工作特征。

    6-11.2 可控参数：

  参见图3-95，其中有：
      

◆对象类型：

  选定要形成阵列的基础，可以是一个或几个特征（上边的图标）、或者是整个零件（下边的图标）。 如果有基于特征的特征，则必须在所依附的特征被选定之后，才会被选定。

◆方向1/方向2：
  选定现有结构的棱边或未退化的草图线，确定阵列的角度方向。也可以调整沿此方向的阵列反向。例如
3-071.IPT，阵列的一个方向是利用零件上倒角的棱边，另一个是利用未退化的草图线。
参见图3-95右上。
  注意：方向参数应当理解为“阵列路径”。就是说，阵列可以是沿着草图线或棱边进行。但用来确定方向的草图线，不可以是“构造线”。

◆阵列尺寸类型：
  展开“间距”栏目，可见可用类型有下列几种：。

  间距：在这个方向上，相邻两个阵列成员的距离值。
  距离：在这个方向上，整个阵列的距离值。这就是“在xxx长度上均布xxx个”的典型设计构思的表达。
  曲线长度：沿曲线阵列时，Inventor将计算选定曲线的长度，按照阵列数量，将特征均布排列在曲线上。

    6-11.3 〉〉按钮：参见图3-96
           

◆方向n起始位置： 重新设置两个方向上阵列的起点。如果需要，阵列可以任何一个可选择的点为起点。

◆计算：
   优化：

  不创建新的特征，仅计算面。这会提高处理速度，如果当 前的阵列量大条件又允许使用这种优化算法，Inventor会发出图3-97的提示。
         

  按Inventor的说法，“优化”是最快的计算方法，确实能大幅度提升阵列的效率。但也因此有些 限制，例如无法创建多重引用，也不能处理与不同的原特征面会有相交的引用。

    完全相同：

  通过复制原始特征来创建选定特征的完全相同副本。在Inventor认为不能使用优化方法时，可 以用这个方法。是一种较快的计算处理模式。

   调整：
  分别计算每个阵列引用的范围或终止方式，来创建复制的特征。具有大量引用的阵列，因为计算量大，会较慢（参见3-072.IPT，图3-98左）。通过使阵列引用可以根据特征范围或终止条件（例如终止于模型面上的阵列特征）进行调整。
       

◆方向： 完全相同：

   在阵列创建中，所有的成员与原始特征一致，不会随着阵列路径旋转。
  方向1/方向2：

  指定阵列成员跟随旋转的二维路径线，参见3-073.IPT，图3-98中。也能沿三维路径阵列，对于圆柱螺旋线为基础的路径没问题（参见3-074.IPT，图3-98右），对于其他三维线路径，可能有着不可控制的扭转。

    6.11-3 应用提示：

◆原特征草图修改和尺寸变化、原特征中的成员删除之类的操作等，将使所有阵列特征中的 其他的特征引用自动关联改变。

◆但是在某阵列成员基础上添加特征，其他成员不会跟随，因为这个特征不属于阵列的原特 征组中的成员。

◆添加原特征组中的成员，需要在阵列特征前先调整（如果可能）：在浏览器中，将新特征拖 放到阵列特征的上边，之后再编辑阵列特征，在浏览器中点击要添加的新的成员特征，直 到结果预览中加入了这个特征。

◆撤销原特征组中的成员，可编辑阵列特征，在浏览器中点击要撤销的成员特征，直到结果 预览中去掉了这个特征。

◆以上规则也适合于环形阵列。

  可以沿二维曲线路径，甚至是沿着封闭曲线正确完成阵列。

       6.12 环形阵列

    6.12-1 几何定义：

  按指定的参数，以环形排列阵列，复制选定的一个或几个特征。不能阵列曲面。

    6.12-2可控参数：参见图3-99
    

◆特征： 与矩形阵列相同。

◆旋转轴：

  可用的有，工作轴、特征棱边、原始坐标系的轴等。

◆放置尺寸： 从左到右，阵列单元数量、阵列包角、阵列方向。

◆创建方法： 与矩形阵列中的“计算”栏目参数和意义相同。

◆放置方法： 增量：相邻单元之间的夹角
            范围：全部单元的包角

    6.12-3 应用提示：

  环形阵列的轴，也可以使用草图线做基础，参见3-075.IPT，其中的草图“环阵轴线草图”就是 这样的。但是不能直接使用，需要依照草图创建工作轴。

  数据传递过程：特征-〉工作面-〉草图-〉投影和草图线-〉约束-〉工作轴-〉环形阵列。

      6.13 凸雕

    6.13-1 几何定义：

  基础是草图轮廓和现有特征，按要求向特征表面投影，做出雕刻样特征。不能对曲面进行此操作。

   6.13-2 可控参数（凸雕和凹雕）

  参见图3-100，其中：
 

◆截面轮廓： 封闭的草图线，应当在现有特征草图所在面上的投影范围之内。也可以是文字草图，以创建“刻字”的结果。

◆深度：

  凸起或凹入的尺寸，以现有特征相关表面作为测量基准。

◆缠绕到面：
  在凸雕特征创建中，其侧面的规则有两种：沿草图所在面法向投影；或者缠绕到原特征上的曲面，沿曲面的法向投影。

  参见图3-100中图和3-076.IPT。左边是默认的样子，凸雕的侧面沿着草图的法向创建；右边 是“缠绕到面”开关打开的样子，凸雕的侧面沿着指定曲面的法向创建。

  在使用“缠绕到面”时，截面中会出现新的按钮“平板”。其实，这里没有“平板”什么事，这是翻译的问题，正确的应当是选择“圆柱或圆锥曲面”。

◆颜色： 单独设置结果特征表面的颜色。

◆结果类型：

  按Inventor的说法，从左到右分别是“从面凸雕”、“从面凹雕”、“从平面凸雕/凹雕”。
  以我们的理解和实验结果，参见图3-100右图和3-077.IPT；比较顺畅的说明应当是“凸出”（图

左）、“凹入”（图中）、“拉伸到面”（图右）。

  而“拉伸到面”类似于将草图“拉伸-到”指定表面的结果，严格地说，与凸雕/凹雕并不是同 类的几何构造，因为结果的“底”不是曲面，而总是平面的。关于凸雕特征在设计中的更深入地用 法，后边将专题讨论。

        6.14 贴图

◆定义：

  将BMP等几乎所有格式的图像文件、或者DOC、XLS文件像标签一样贴在实体表面上，使用与凸雕类似的投影规则。

◆可控参数：

  对于图3-101左界面中的参数解释如下：
      

  缠绕到面：

  例子参见3-078.IPT，图3-101中。不是圆柱或者圆锥表面，将不能被选定作为缠绕面；而且只能处理“一个”圆柱或圆锥面，对于后添加的多重圆柱面会出错（参见3-079.IPT）。

  链选面：是设定可否将贴图放在与选定面有公共边界的相邻面上。

◆操作步骤：

  先创建新草图，用“插入图像”工具引进相关文件；结束草图。再启用“贴图”特征工具（参见图3-101）实施粘贴；

  参见3-080.IPT中的贴图草图。原始图像中带有“透明背景”的设置，要想使用这个设置，需 要在浏览器中激活草图、选定图像，在右键菜单中“特性”，在其后弹出的图3-102的界面中，将“使 用掩码”开关打开，这样贴图的底色就成为透明的了。
      

  在这个界面中还能控制图像的旋转和两个方向上的镜像。与文字草图类似，图像草图的几何约 束和尺寸约束也是利用它的边框线实现的,参见3-081.IPT。

      6.15 镜像

    6.15-1 几何定义：

  这是创建特征或者整个零件的“面对称”结构模型，并相 互关联。基础条件是，现有特征和充当对称面的平面（特征平 面、工作面、基础坐标面等。）。也能镜像曲面。

    6.15-2 可控参数：参见图3-103
       

◆特征：
  选定原始的一个或多个特征。 如果有基于特征的特征，则必须在所依附的特征被选定之后，才会被选定。选完右键菜单“继续”或直接选定“镜像平面”的按钮选镜像平面。

◆镜像平面：

  选定作为面对称模型的“对称面”。

◆创建方法： 与阵列相同选项类似。
  优化：“优化”是最快的计算方法。

  完全相同：创建与原始特征完全相同面对称模型，而不管它们是否与另一特征相交。
  根据模型调整：适合于希望其中的每个特征分别计算的镜像特征。例如特征终止于模型面。

    6.16 放置特征--特征库

  在特征工具面板上选“放置特征…”将弹出特征库的界面，选择库中已有的特征。